在制氫系統(tǒng)中，對(duì)于氫純化設(shè)備出口氫氣露點(diǎn)的測(cè)量是非常重要的一項(xiàng)監(jiān)控工藝。那么氫純化設(shè)備出口為什么需要測(cè)露點(diǎn)呢？氫純化設(shè)備氫氣露點(diǎn)，是指在一定壓力下，所需降低氫氣溫度至飽和時(shí)形成露水的溫度。通常要求制氫設(shè)備出口使用氫氣微量水分露點(diǎn)分析儀檢測(cè)純化后氫氣的露點(diǎn)水分含量，并將露點(diǎn)溫度值控制在負(fù)40°C以下，以確保氫氣中的水汽含量符合標(biāo)準(zhǔn)。這是因?yàn)楫?dāng)水汽含量過高時(shí)，會(huì)在氫氣使用過程中引發(fā)一系列問題。 氫氣因其高能、環(huán)保等特性，被廣泛應(yīng)用于能源、航空航天、電子工業(yè)等領(lǐng)域。然而，氫氣中的水分如果未被充分去除，會(huì)對(duì)設(shè)備的運(yùn)行和產(chǎn)品的質(zhì)量帶來極大的影響。尤其是在高精度的電子工業(yè)中，水分可能會(huì)導(dǎo)致半導(dǎo)體芯片的短路和失效。因此，對(duì)氫純化設(shè)備的出口露點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量，確保其符合使用要求，是至關(guān)重要的。
 
氫氣純化設(shè)備出口測(cè)水分露點(diǎn)的主要原因如下：
1、水汽會(huì)引發(fā)金屬腐蝕
氫氣中的水汽在高溫環(huán)境下會(huì)與金屬表面發(fā)生反應(yīng)，形成氫化物，進(jìn)而引發(fā)金屬腐蝕的問題。這樣會(huì)降低設(shè)備的壽命，并可能導(dǎo)致設(shè)備的功能失效。
2、水汽會(huì)導(dǎo)致液態(tài)氫泄漏
氫氣中的水汽在低溫環(huán)境下會(huì)凝結(jié)成液態(tài)水，并在氫氣傳輸過程中形成水滴。這些水滴會(huì)堵塞管道或附著在設(shè)備內(nèi)部的表面上，從而引發(fā)氫氣的泄漏問題。液態(tài)氫泄漏不僅會(huì)造成資源的浪費(fèi)，還可能引發(fā)安全隱患。
3、有助于保證制氫設(shè)備的正常運(yùn)行
在氫氣的生產(chǎn)、儲(chǔ)存和運(yùn)輸過程中，由于環(huán)境條件的變化，氫氣中水分的含量可能會(huì)發(fā)生變化。如果無法及時(shí)準(zhǔn)確地監(jiān)測(cè)到這種變化，可能會(huì)導(dǎo)致設(shè)備的性能下降，甚至引發(fā)安全事故。通過定期測(cè)量氫氣的露點(diǎn)，可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)并處理這些問題，保證設(shè)備的穩(wěn)定運(yùn)行。
4、符合氫氣產(chǎn)品國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的要求
對(duì)于氫氣產(chǎn)品的質(zhì)量，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《GB/T 3634.1-2006 氫氣 第1部分 工業(yè)氫》和《GB/T 3634.2-2011 氫氣 第2部分：純氫、高純氫和超純氫》中有著嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)要求。其中，就包括了對(duì)氫氣中水分含量露點(diǎn)溫度值的限制。只有嚴(yán)格控制氫氣的露點(diǎn)，才能保證生產(chǎn)的氫氣符合國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，滿足客戶的需求。 以贏潤(rùn)集團(tuán)研發(fā)生產(chǎn)的ERUN-PG7190便攜式氣體水分露點(diǎn)分析儀和ERUN-PG919T氣體微量水分露點(diǎn)在線分析儀為例，分別適用于隨身攜帶方便快速移動(dòng)測(cè)量和固定安裝連續(xù)實(shí)時(shí)在線監(jiān)測(cè)氣體的微量水分露點(diǎn)溫度值的工況場(chǎng)所，支持顯示露點(diǎn)溫度Td、溫度T、相對(duì)濕度RH、水分體積濃度ppmv、水分質(zhì)量濃度g/m3等。

工業(yè)級(jí)氫氣露點(diǎn)微量水分檢測(cè)儀技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品型號(hào)：ERUN-QZ919T（在線式）、ERUN-PG7190（便攜式）
露點(diǎn)范圍：-80℃～+20℃（可選量程：-100～+20℃）
溫度范圍：-40℃～+100℃
濕度范圍：0~100%RH
精度誤差：±2℃Td、±0.1℃、±0.8RH%
顯示項(xiàng)目：Td、T、RH、ppmv、g/m3
數(shù)據(jù)傳輸：4-20 mA、0-1V、0-5V、0-10V（在線式）、USB（便攜式） 以上就是關(guān)于氫純化設(shè)備出口為什么需要測(cè)露點(diǎn)的相關(guān)介紹，制氫設(shè)備出口氫氣露點(diǎn)的測(cè)量是確保制氫過程的關(guān)鍵步驟。水汽含量過高會(huì)引發(fā)金屬腐蝕和液態(tài)氫泄漏等問題，因此及時(shí)進(jìn)行氫氣露點(diǎn)測(cè)量十分重要。通過氫氣微量水分露點(diǎn)分析儀測(cè)量水汽的露點(diǎn)溫度，制氫設(shè)備可以及時(shí)發(fā)現(xiàn)水汽含量異常，并采取相應(yīng)措施，以確保設(shè)備的正常運(yùn)行和氫氣的質(zhì)量。只有保持出口氫氣的水汽含量符合標(biāo)準(zhǔn)，才能確保制氫過程的安全高效進(jìn)行。